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自耗式真空電弧爐

簡要描述:用於 富勒烯,碳納米烯,石墨烯等納米材料的研發製備生產等使用,也廣泛應用於熔煉高熔點金屬/合金,以及材料的提純等

  • 產品型號:KDH-2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2019-03-23
  • 訪  問  量:518

KDH-2000自耗真空電弧爐熔煉爐

一、設備用途 :

用於 富勒烯,碳納米烯,石墨烯等納米材料的研發製備生產等使用,也廣泛應用於熔煉高熔點金屬/合金,以及材料的提純等

設備主要技術參數:

1、型號: KDH-2000

2、電弧熔煉室:式圓筒型真空室

3、真空係統配置:2X-30旋片式機械泵TK-200擴散泵、三台高真空和各種管路組成高真空係統真空度可達6.7*10-3pa

4、冷態極限真空度 6.7x10E-3Pa

5、自耗電流:額定電流2000A(電源客戶自備)

6、熔煉工位: 兩工位安裝在同一真空腔室,可獨立工作

7、工作氣體:Ar氣;

8電極升降方式:伺服電動升降

9、電極升降速度:慢速升降速度:0~60mm/min

                 快速升降速度:0-300mm/min

10引弧方式:高頻引弧

11、爐體側部開門,裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,爐體上有兩個觀察視窗。可清楚看到爐內工作情況,

 

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