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真空懸浮熔煉爐

簡要描述:真空懸浮爐真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,幹淨無汙染。冶煉溫度高,溫度可達2500甚至以上,真空懸浮爐專門應用於高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。真空懸浮爐采用磁懸浮專用IGBT電源,配合自助研發的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。采用兩級分子泵控製係統真空度高,可達5.0*10-5pa。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2020-11-04
  • 訪  問  量:1726
品牌自營品牌產地類別國產
應用領域化工,能源,冶金,航天,綜合
  一、真空懸浮熔煉爐設備用途
 
  真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來飛速發展的一種熔煉方法,主要用來製取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和高*材料製備等許多重要領域得到了廣泛的應用,顯示出良好的應用前景。
 
  二、真空懸浮熔煉爐設備特點
 
  1·真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,幹淨無汙染。
 
  2·冶煉溫度高,溫度可達2500甚至以上,專門應用於高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。
 
  3·采用磁懸浮專用IGBT電源,配合自助研發的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。
 
  4·采用兩級分子泵控製係統真空度高,可達5.0*10-5pa。
 
  三、主要技術參數
 
  1、額定功率:65Kw
 
  2、容量(以鈦計):0.25Kg
 
  3、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
 
  4、冷態極限真空度:6.67×10E-4Pa

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